光刻胶板块异动

更多内容：www.nuoha.com，长春光机所控股子公司长春国科精密光学技术有限公司宣布，国家02专项核心任务——“高NA浸没光学系统关键技术研究”项目在上海通过了任务正式验收，标志着我国首套全自主知识产权高端光刻机曝光光学系统研制成功。{image=1}