南大光电：自主研发的ArF光刻胶产品再次通过客户认证
新浪财经2021-05-31 20:10:500阅
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5月31日消息，南大光电公告，自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。认证评估结果显示，本次认证系选择客户55nm技术节点逻辑芯片产品的工艺进行验证，宁波南大光电研发的ArF光刻胶的测试良率结果符合要求，表明其具备55nm平台后段金属布线层的工艺要求。
责任编辑：彭佳兵
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